O ULTRA R9000, da Universal Laser Systems, foi projetado para o processamento não metais e é o maior sistema laser da série ULTRA com uma área de trabalho de 1219*610mm.
Pode ser configurado numa configuração de apenas CO2 (10,6 ou 9,3 µm) ou numa configuração de múltiplos comprimentos de onda (CO2 e Fibra).
Um máximo de 300W de potência do laser é suportado numa configuração apenas de CO2. Um máximo de 150W de CO2 e 50W de Fibra são suportados numa configuração de múltiplos comprimentos de onda.
Um recurso que mantém curvas em um arquivo de projeto, ou seja, círculos, elipses, b-splines, Beziers e NURBS, e garante que as curvas sejam mantidas durante todo o processo de planejamento do caminho, em vez de usar interpolação linear.
Um recurso com patente pendente que fornece uma interface de usuário de realidade aumentada, sobrepondo arquivos de design em imagens do material colocadas na superfície de suporte do material e capturadas por múltiplas câmaras integradas ao sistema de laser.
A interface de usuário AR facilita o alinhamento preciso dos arquivos de projeto usando controles que permitem que o arquivo de projeto seja posicionado, girado e dimensionado com feedback visual em tempo real, possibilitado por algoritmos avançados de visão de máquina.
Estrutura de suporte de material motorizado (eixo Z) e sensor de toque de alta resolução.
Uma tecnologia patenteada que permite aos usuários instalar e reinstalar qualquer fonte de laser ULS CO2 suportada em qualquer sistema laser ULS sem ferramentas e alinhamento ótico para otimizar o processamento a laser para a mais ampla variedade de materiais.
Um banco de dados poderoso e exclusivo que gera parâmetros de processamento a laser para uma ampla variedade de materiais e configurações de sistemas a laser. Se a configuração do sistema for alterada, o banco de dados recalculará automaticamente os valores dos parâmetros.
Uma tecnologia patenteada que permite que uma combinação de comprimentos de onda de laser (até três comprimentos de onda) seja focada no mesmo ponto focal dentro do mesmo plano focal e usada sequencialmente ou simultaneamente.